“纳米画笔”勾勒未来光电子器件
图1 各类电子和光电子器件（图片来源于网络）
近日，中国科学院上海技术物理研究所科研人员研发出一种简单的制备低维半导体器件的方法——用“纳米画笔”勾勒未来光电子器件。由于二维材料如同薄薄的一张纸，它的性质很容易受到环境影响。利用这一特性，研究人员在二维材料表面覆盖一层铁电薄膜，使用纳米探针施加电压在铁电材料表面扫描，通过改变对应位置铁电材料的性质来实现对二维材料性质的精准操控。当设计好器件功能后，科研人员只需发挥想象，使用纳米探针“画笔”在铁电薄膜“画布”上画出各种各样的电子器件图案，利用铁电薄膜对低维半导体材料物理性质的影响，就能制成所需的器件。
实际实验操作中，“画笔”是原子力显微镜的纳米探针，它的作用就相当于传统晶体管的栅电极，可以用来加正电压或负电压。但不同于传统栅电极，原子力显微镜的针尖是可以任意移动的，如同一支“行走的画笔”，在水平空间上可以精确“画出”纳米尺度的器件。在这个过程中，研究人员通过控制加在针尖上电压的正负性，就能轻易构建各种电子和光子器件，如存储器、光探测器、光伏电池等。
图2 纳米探针“画笔”在铁电材料“画布”上“画出”电子器件
下图是一张用探针针尖写出来的心形图案，充分体现了图形编辑的任意性。而且，一个器件在写好之后，用针尖重新加不同的电压进行扫描，还能写成新的功能器件，就像在纸上写字然后用橡皮擦干净再重新写上一样，即同一个器件可以反复利用、实现不同功能。就像一个机器人，刷新一下控制程序，就能做不同的事情。
图3 利用探针“画”出的“心形”器件
研究人员还进一步将这种探针扫描技术应用于准非易失性存储器。准非易失性存储器是指同时满足写入数据速度较快，保存数据的时间较长的一类存储器。发展这类存储技术很有意义，如它可以在我们关闭计算机或者突然性、意外性关闭计算机的时候延长数据的保存时间。
此外，这种器件制备技术可用于设计“电写入，光读出”的存储器，我们日常使用的光盘就是典型的“光读出”的存储媒介。由于低维半导体载流子类型在针尖扫描电场作用下会发生改变，导致其发光强度也会出现明显变化。因此结合扫描图形任意编辑的特点，科研人员就可以设计出周期性变化的阵列。
这些阵列图形的每个区域都经过针尖去控制它的载流子类型，进而控制低维材料的发光强度，然后通过一个相机拍照就能直接获取一张荧光强度照片。每一个存储单元的信息都在这张照片里“一目了然”，暗的单元可以用来代表存储态中的“0”，亮的单元可以用来表示“1” ，类似于一种新型存储“光盘”。
科研人员可以简单直接地通过拍荧光照片的方式同时获取每个存储单元的信息。运用该技术，若用电压读出的方式，理论上的存储密度可以达到几个T-Byte/in2。
图4 “电写入，光读出”的存储原理及效果
该研究由上海技物所与复旦大学、华东师范大学、南京大学，中科院微电子研究所等课题组合作完成。1月24日，研究成果以Programmable transition metal dichalcogenide homojunctions controlled by nonvolatile ferroelectric domains为题，发表在《自然-电子学》上。
